表面科学
Online ISSN : 1881-4743
Print ISSN : 0388-5321
ISSN-L : 0388-5321
特集:放射能の除染にかかわる表面科学
X線光電子分光分析によるセシウム化合物の化学シフト
八田 珠郎根本 清子万福 裕造松本 成夫山田 裕久
著者情報
キーワード: chemical shift, Cs, XPS
ジャーナル フリー

2013 年 34 巻 3 号 p. 131-134

詳細
抄録

The chemical shift of the 3d5/2 line of several cesium compounds were measured under the same condition by X-ray photoelectron spectroscopy. With the Auger line (M4N45N45) , the figure of chemical state plot (Wager plot) of the cesium compounds was drawn. When many materials are developed for decontamination of radioactive substances, and the new materials will be evaluated for the future, the measured data are used for the confirmation of the binding state.

Fullsize Image
著者関連情報

この記事はクリエイティブ・コモンズ [表示 - 非営利 4.0 国際]ライセンスの下に提供されています。
https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/deed.ja
前の記事 次の記事
feedback
Top