マルチプルレゾリューション / Multiple Resolution

■ DOI : 10.14989/doctor.k19185

	登録機関名 / Registration Institution Name	最終更新日 / Last Update
1	機関リポジトリ／Institutional Repository	2026/02/19
2	国立国会図書館／National Diet Library	2026/03/11

■ タイトル情報 / Title Information

タイトル / Title : A study of defect generation phenomena in single crystalline silicon substrate during plasma processing and the characterization techniques

言語 / Language : 英語 /English

タイトル / Title : プラズマ暴露によるシリコン単結晶基板中の欠陥生成メカニズム及びその評価技術の研究

言語 / Language : 日本語 /Japanese

■ 筆頭著者名情報 / First Author Information

著者名(姓) / Surname : Nakakubo

著者名(名) / Given Name : Yoshinori

言語 / Language : 英語 /English

著者名(姓) / Surname : 中久保

著者名(名) / Given Name : 義則

言語 / Language : 日本語 /Japanese